İnce Film Oluşturma ve Karakterizasyon Sistemleri
İnce film nanometre ila bir kaç mikrometreye kadar kalınlığı olan katmanlardır. Nanometre seviyesindeki filmler çoğunlukla tek katman tabakalardır. İnce filmlerin keşfi ve başarılabilmesi ile manyetik kayıt elemanları, elektronik yarı-iletken malzemeler, LEDler, optik kaplamalar, malzeme dayanımını arttıran kaplamalar, enerji üretimi (güneş pilleri) ve enerji depolama (ince film bataryalar) ya da ince film ilaç salımı gibi ürünler mümkün kılınarak mikroelektronik, nanoteknoloji, güneş pilleri, fonksiyonel paneller, optik, fotonik, tekstil, kimya, biyoloji ve tıp alanlarına önemli katkılar sağlanmıştır.
Bu incelikte filmlerin oluşturulması ancak kontrollü yöntemlerle gerçekleştirilebilmektedir. Örneğin Langmuir ve Langmuiir-Blodgett sistemler ile tek molekül kalınlığında katmanlar üretebilir ve bu katmanları oluşturan moleküllerin kontrollü bir şekilde dizilmelerini sağlayabilirsiniz. Multi Parametrik Yüzey Plazmon Rezonans sistemleri ve QCM-D sistemleri ile katman oluşumunun performansını takip edebilir, yüzey fonksiyonluğunu kontrol edebilirsiniz.
Bunlara ek olarak ince film geliştirmek ve işlemek için moleküler ışınlı epitaksiyal büyüme (MBE), iyon demeti aşındırma (IBE), atomik katman biriktirme (ALD), kimyasal buhar biriktirme (CVD) gibi vakum altında çalışılan yöntemler kullanılabilmektedir. Her bir yöntem özel bir uygulamaya yönelik kullanılır ve istenen özelliklerde ince filmler elde etmek için özel işlem parametreleri gerektirir. İnce film karakterizasyon sistemlerimiz ile ince film üretim süreçlerinizi daha iyi analiz ederek optimize edebilirsiniz, filmlerinizin kalitesini kontrol edebilirsiniz.